高純水的參數(shù)及應用范圍：高純水（High purity water）是指25℃時電導率小于0.1 μs/cm和殘余含鹽量小于0.3 mg/L，并去除了非電介質(zhì)的微量**、微生物、微粒等雜質(zhì)的水。制取方法有蒸餾、RO膜分離、離子交換等。主要用于電子和微電子工業(yè)，也用于食品、造紙、醫(yī)藥、電子、核工業(yè)等行業(yè)。

水的純度通常是以水中所含雜質(zhì)的相對含量來表示的。但當水的純度達一定水平后，水中的雜質(zhì)總量已很少了，個別雜質(zhì)的濃度更低，有些已不易檢出。在這種情況下，常用水的電導率（或電阻率）來表示水的純度。因為純水中H+和OH-離子的濃度都是10-7 mol/L，其電導率很低，幾乎不導電。而當水中含有某些雜質(zhì)（如可溶性鹽）時，由于雜質(zhì)離子能導電，使其電導率迅速上升。因此水的電導率是與其純度密切相關的。

泉特QTCJ高純水制取工藝：源水→機械過濾→活性炭過濾器→軟水器→二級反滲透器→純水箱→EDI精除鹽→離子交換柱→高純水箱→供水泵→紫外燈**器→精密過濾器→用水點

高純水的制備流程由預處理、脫鹽和后處理三部分組成，根據(jù)用水的要求，選擇合適的工藝組合。

（1）預處理。主要是除去懸浮物、有機物，常用的方法有砂濾、膜過濾、活性炭吸附等。

（2）脫鹽。主要是除去各種鹽類，常用的方法有電滲析、反滲透、離子交換等。

（3）后處理。主要是除去**、微顆粒，常用的方法有紫外**、臭氧**、超過濾、微孔過濾等。

我國高純水的國家標準將電子級水分為五個級別，相應標準為EW-I、EW-Ⅱ、EW-Ⅲ、EW-IV、EW-V，其中EW-I為***，它所要求的雜質(zhì)控制指標如下：電阻率在90%時間內(nèi)達到18 MQ·cm（25℃），其余時間*小值為17 MQ·cm（25℃），大于0.5 μm的微粒數(shù)少于100個/mL，**個數(shù)*大值1個/mL，總有機碳含量不大于50 μg/L，二氧化硅總含量不大于2 μg/L，氯、鉀、鋁、鐵、鈣的含量均不大于0.5 μg/L，而銅、鋅含量不大于0.2 μg/L。

泉特高純水主要應用在電子和微電子工業(yè)上，也用于食品、造紙、醫(yī)藥等行業(yè)。隨著半導體器件由過去的單電路發(fā)展到集成電路，對水質(zhì)的要求就越來越高。在半導體切片和研磨過程中，須用高純水進行清洗，即使只有微粒塵埃雜質(zhì)，也會影響產(chǎn)品質(zhì)量。